I juni 2019 gjennomførte Chipchain tape-out av et design i TSMCs FinFET-prosess på 16 nm med fullt maskesett.
Et fullt maskesett lages for ett enkelt design. I motsetning til en plass på en delt multiprosjektwafer gir det designet alle plassene på waferen.
Tape-out med fullt maskesett kom etter selskapets første tape-out på 16 nm, som ble gjort på en multiprosjektwafer i november 2018.